大視場紋影儀

產(chǎn)品型號：WKJWY-20
更新時間：2025-02-25
產(chǎn)品介紹：大視場紋影儀WKJWY-200能夠排除常規(guī)陰影儀和紋影儀對這個測試光路中流場信息進行積分顯示，其僅顯示感興趣的截面的流場信息。通過對多個截面進行聚焦紋影流場顯示，還能達到三維流場顯示的目的。
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產(chǎn)品介紹

大視場紋影儀WKJWY-20簡介：

聚焦紋影儀主要用于流場截面紋影成像，其成像面截面后約2-5mm，是流場精細顯示測量。是利用光在被測流場中的折射率梯度正比于流場的氣流密度的原理，將流場中密度梯度的變化轉(zhuǎn)變?yōu)橛涗浧矫嫔舷鄬鈴姷淖兓?，使可壓縮流場中的激波、壓縮波等密度變化劇烈的區(qū)域成為可觀察、可分辨的圖像，從而記錄下來。其主要由激光器、激光擴束鏡、菲涅爾透鏡、格柵、聚焦成像物鏡、刀口柵、成像屏和攝像機組成。能對流場聚焦截面進行成像。

WKJWY-200聚焦紋影儀能夠排除常規(guī)陰影儀和紋影儀對這個測試光路中流場信息進行積分顯示，其僅顯示感興趣的截面的流場信息。通過對多個截面進行聚焦紋影流場顯示，還能達到三維流場顯示的目的。

大視場紋影儀WKJWY-20技術(shù)指標(biāo)：

參數(shù)	最大值	最小值	備注
視場	Φ1000mm	Φ100mm	由工作距離決定
工作距離	20m	2m	等于20視場
屏幕距離	40m	4m	等于2倍工作距離
屏幕尺寸	Φ2000mm	Φ200mm	等于2倍視場
成像傳感器	數(shù)碼單反相機、高速相機、記錄干板
聚焦厚度	2-30mm
照明設(shè)備	普通激光光源、LED光源
其他	可配備數(shù)字圖像處理軟件

應(yīng)用領(lǐng)域：作為常用的光測方法，在流體力學(xué)實驗中具有廣泛的應(yīng)用，可用于觀測氣流的邊界層、燃燒、激波、氣體內(nèi)的冷熱對流以及風(fēng)洞或水洞流場。具有結(jié)果簡單，成像技術(shù)好，精度高等優(yōu)勢，將人眼不可見的流體密度變化轉(zhuǎn)化為光強信息記錄下來，使得對流場的觀測更為直接形象，特別是彩色紋影技術(shù)的發(fā)展，使得拍攝的圖像更加美觀。

　　系統(tǒng)組成：其主要由激光器、激光擴束鏡、菲涅爾透鏡、格柵、聚焦成像物鏡、刀口柵、成像屏和攝像機組成。

　　光源和激光擴束鏡為系統(tǒng)系統(tǒng)均勻照明的作用，并提供足夠亮度，滿足高速相機拍照時清晰成像的要求。

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